[发明专利]沉积场致发光器件薄层的掩模框组件及沉积薄层的方法有效
| 申请号： | 200410087462.8 | 申请日： | 2004-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1607868A | 公开（公告）日： | 2005-04-20 |
| 发明（设计）人： | 金鲜喜 | 申请（专利权）人： | 三星OLED株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏;黄力行 |
| 地址： | 韩国蔚*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明披露了一种掩模框组件，其用于沉积有机场致发光器件的薄层。该掩模框组件包括以下几个部分：一主掩模，其形成有与大量单元体相对应的图案；一图标掩模(具有图标图案)，其设置在主掩模上并相应于主掩模的一个或多个开口；以及一掩模框，其形成有相应于所述主掩模的开口，并被连接到所述主掩模和图标掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 发光 器件 薄层 掩模框 组件 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于沉积有机场致发光器件的一个或多个薄层的掩模框组件，包括：一主掩模，其具有相应于大量单元体的图案，在该图案上设置有一开口；一图标图案承载掩模，其具有相应于图标的图案；其中该图标图案承载掩模设置在主掩模上，并与形成在所述主掩模上的开口相对应；以及一掩模框，其形成有与主掩模相对应的开口，并被连接到所述主掩模和所述图标图案承载掩模。
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