[发明专利]光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200410087446.9 | 申请日： | 2004-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN1603961A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;D·J·P·A·弗兰肯;P·C·科彻斯佩格;K·Z·特鲁斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 傅康;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 将一个或多个程控构图装置通过高度调整结构装配到装配板上，所述高度调整结构能使构图装置的有源表面的平面度得到控制。所述高度调整结构可以包括压电制动器或螺杆阵列。或者是，构图装置的背侧被打磨成光学平坦面，并通过晶体粘结而结合到刚性装配体的光学平坦表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：照明系统，用于提供辐射的投射光束；可独立控制的元件构图阵列，用于在投射光束横截面上赋予图案；其上装配有所述构图阵列的装配片；高度调整结构，用于局部调整所述构图阵列有源表面的高度；用于支撑基底的基底台；和投射系统，用于将图案化光束投射到基底的靶部上。
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