[发明专利]在电子衬底中确定对准误差的靶系统和方法

摘要

一种在电子衬底中确定对准误差的方法，包括在衬底层上提供第一对比单元组，形成在x和y方向具有多个栅格段的第一栅格图形。该方法还包括在衬底的相同或不同层上提供嵌套于至少一个第一栅格图形段中的第二对比单元组，形成在x和y方向具有多个栅格段的第二栅格图形。该方法还包括确定在第一栅格图形中的第一单元组的中心和确定在第二栅格图形中的第二单元组的中心。该方还包括比较第一和第二单元组的中心，以及确定第一和第二栅格图形的对准误差。

主权项

1.一种用于在电子衬底中确定对准误差的靶系统，包括：第一对比单元组，形成单元之间具有一距离的第一栅格图形，第一栅格图形至少在x和y的一个方向具有多个栅格段；以及至少一个第二对比单元组，形成单元之间具有一距离的第二栅格图形，第二栅格图形在x和y方向具有多个栅格段，第二单元组之间的距离小于第一单元组之间的距离，第二栅格图形被设置于一个第一栅格图形段内，其中通过测量第一和第二栅格图形中的第一和第二单元组之间的距离确定对准误差。