[发明专利]化学汽相沉积设备

摘要

一种用于在基质的整个范围内汽相沉积均匀薄膜的化学汽相沉积设备。所述化学汽相沉积设备包括一个与外部隔绝并保持真空的反应室；一个旋转地安装于反应室内并放有至少一片基质的基座；和一个注射器，其包括独立形成的第一和第二气体通道，以及在各自入口处连接各自气体通道的用于将各自的第一和第二气体注射到基座上的第一和第二气体注射管，所述注射器可独立注射不同的气体。所述注射器进一步包括一个与第二气体通道相连接的气体注射部分，以便将第一和第二气体中仅作为非反应载气的第二气体的载气注射到基座的中心区域。

主权项

1、一种化学汽相沉积设备，包括：一个与外部隔绝并保持真空的反应室；一个旋转地安装于反应室内并放有至少一片基质的基座；和一个注射器，其包括独立形成的第一和第二气体通道，以及在各自入口处连接各自气体通道的用于将各自的第一和第二气体注射到基座上的第一和第二气体注射管，所述注射器独立地注射不同的气体；其中对应于基座的中心区域的部分仅安装有第二气体注射管，使得仅将第一和第二气体中作为非反应载气的第二气体注射到基座的中心区域。