[发明专利]光刻装置及器件制造方法

摘要

一种光刻装置，包括设置在投影系统的中间焦点处或其附近的辐射衰减器或可变孔径系统，如遮光叶片。除了辐射衰减器或可变孔径系统之外，测量系统可以设置在中间焦点处。通过将这些系统的一个或多个放置于投影系统的中间焦点处而不是放置于照射系统的中间掩模版附近，因其有更大的可用空间而存在较少的设计限制，导致较低的设计成本。

主权项

1.一种光刻装置，包括：用于提供辐射投射光束的照射系统；用于支撑构图结构的支撑结构，所述构图结构用于给投射光束的截面赋予图案；用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，该投影系统具有一中间焦点，其中该装置包括在中间焦点处或其附近处的至少一个如下的装置：至少一个用于衰减带图案的光束的辐射衰减器；至少一个用于使至少一部分带图案的光束穿过的可变孔径系统；以及至少一个用于测量带图案的光束的强度的辐射测量系统。