[发明专利]使用抽样衍射信号选择一个假想剖面用于光学计量有效
申请号: | 200410079171.4 | 申请日: | 2004-09-15 |
公开(公告)号: | CN1619288A | 公开(公告)日: | 2005-05-25 |
发明(设计)人: | 翁维;包军巍;斯里尼瓦斯·多迪;伊曼纽尔·德勒热;温金;桑贾伊·耶杜尔;道瑞斯·钦;尼克黑尔·亚卡塔达尔;劳伦斯·雷恩 | 申请(专利权)人: | 音质技术公司 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17;G01N21/84;G01N21/956;G06F19/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 使用一个假想剖面来模拟形成于半导体晶片上的结构剖面,用于使用光学计量确定该结构的剖面。选择一个假想剖面,从形成于晶片上的结构中测量的衍射信号获得抽样衍射信号,该抽样衍射信号是对测量的衍射信号的代表性抽样。定义了一个假想剖面,并从获得的抽样衍射信号中使用一个抽样衍射信号对该假想剖面进行评价。 | ||
搜索关键词: | 使用 抽样 衍射 信号 选择 一个 假想 剖面 用于 光学 计量 | ||
【主权项】:
1.一种选择一个假想剖面来模拟形成于半导体晶片上的结构剖面,用于使用光学计量确定结构剖面的方法,该方法包括:从形成于晶片上的结构测量的衍射信号获得抽样衍射信号,其中抽样衍射信号是对测量的衍射信号的代表性抽样;定义一种假想剖面,以模拟形成于晶片上的结构剖面;以及从获得的抽样衍射信号中使用一个抽样衍射信号对该假想剖面进行评价。
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