[发明专利]光学元件的形成方法无效
| 申请号： | 200410077147.7 | 申请日： | 2004-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1598696A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | N·帕格里诺;C·S·艾伦 | 申请（专利权）人： | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B6/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种光学元件的形成方法。所述方法涉及：(a)在基质上形成一层包含有机－无机杂混聚合物和感光组分的可光致成像组合物，其中所述层有第一折光指数和第一溶解速率；和(b)利用光化辐射通过多光子吸收使所述层的预定体积曝光。使所述体积有：(i)与第一折光指数不同的第二折光指数和/或(ii)与第一溶解速率不同的第二溶解速率。所述方法特别适用于形成光波导和其它光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件的形成方法，包括：(a)在基质上形成一层包含有机-无机杂混聚合物和感光组分的可光致成像组合物，其中所述层有第一折光指数和第一溶解速率；和(b)利用光化辐射通过多光子吸收使所述层的预定体积曝光，从而使所述体积有：(i)与第一折光指数不同的第二折光指数和/或(ii)与第一溶解速率不同的第二溶解速率。
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