[发明专利]磺酰胺化合物、高分子化合物、抗蚀材料及图案形成方法无效
| 申请号： | 200410076928.4 | 申请日： | 2004-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN1611490A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 岸村真治;远藤政孝;屉子胜;上田充;饭森弘和;福原敏明 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C07C311/01 | 分类号： | C07C311/01;C08F28/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明能够提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、衬底密接性、显像溶解性优良的抗蚀材料。抗蚀材料的基础树脂含有由[化学式1]这样的通式所表示的单元。R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数大于等于0且小于等于20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5、R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。 | ||
| 搜索关键词： | 磺酰胺 化合物 高分子化合物 材料 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磺酰胺化合物，其特征在于：其以[化学式1]这样的通式来表示，[化学式1]![]()
R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数大于等于0且小于等于20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5、R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。
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