[发明专利]反应等离子喷涂反应室装置无效

专利信息
申请号: 200410072552.X 申请日: 2004-10-28
公开(公告)号: CN1603451A 公开(公告)日: 2005-04-06
发明(设计)人: 阎殿然;何继宁;董艳春;李香芝;张建新 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12;C23C4/18
代理公司: 天津市学苑有限责任专利代理事务所 代理人: 赵尊生
地址: 300130天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种反应等离子喷涂反应室装置,其结构包括等离子喷枪与反应室构成;反应室与等离子喷枪通过螺纹连接在一起;反应室由内套、外套、进水管、出水管、进气管和送粉孔构成;内套和外套管焊接在一起构成反应室的主体结构,内套和外套管间的空间及进水管和出水管组成反应室的冷却部分,出水管和进水管焊在反应室的外套上,靠冷却水的快速流动带走一定的热量,冷却反应室。进气管连接反应室的内套,与反应室的内套和外套焊接在一起。本装置解决了普通等离子喷涂难以制备高熔点的陶瓷涂层的难题,主要用于使用低功率等离子喷涂设备,采用微米级金属粉末制备高熔点的纳米晶陶瓷涂层和粉末的工艺。
搜索关键词: 反应 等离子 喷涂 装置
【主权项】:
1、一种反应等离子喷涂反应室装置,其特征在于:它包括等离子喷枪与反应室构成;反应室由反应室冷却结构、反应室送气结构和反应室送粉结构组成,反应室与等离子喷枪连接在一起。
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