[发明专利]反应等离子喷涂反应室装置无效
| 申请号: | 200410072552.X | 申请日: | 2004-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN1603451A | 公开(公告)日: | 2005-04-06 |
| 发明(设计)人: | 阎殿然;何继宁;董艳春;李香芝;张建新 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
| 主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/18 |
| 代理公司: | 天津市学苑有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 赵尊生 |
| 地址: | 300130天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种反应等离子喷涂反应室装置,其结构包括等离子喷枪与反应室构成;反应室与等离子喷枪通过螺纹连接在一起;反应室由内套、外套、进水管、出水管、进气管和送粉孔构成;内套和外套管焊接在一起构成反应室的主体结构,内套和外套管间的空间及进水管和出水管组成反应室的冷却部分,出水管和进水管焊在反应室的外套上,靠冷却水的快速流动带走一定的热量,冷却反应室。进气管连接反应室的内套,与反应室的内套和外套焊接在一起。本装置解决了普通等离子喷涂难以制备高熔点的陶瓷涂层的难题,主要用于使用低功率等离子喷涂设备,采用微米级金属粉末制备高熔点的纳米晶陶瓷涂层和粉末的工艺。 | ||
| 搜索关键词: | 反应 等离子 喷涂 装置 | ||
【主权项】:
1、一种反应等离子喷涂反应室装置,其特征在于:它包括等离子喷枪与反应室构成;反应室由反应室冷却结构、反应室送气结构和反应室送粉结构组成,反应室与等离子喷枪连接在一起。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
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