[发明专利]多元硫属光电薄膜的连续离子吸附反应制备方法无效
申请号: | 200410072322.3 | 申请日: | 2004-10-12 |
公开(公告)号: | CN1614790A | 公开(公告)日: | 2005-05-11 |
发明(设计)人: | 靳正国;石勇;刘晓新 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明是多元硫属光电薄膜的连续离子吸附反应制备方法;首次采用不同比例的混合阳离子前驱体溶液,制备组成可控的CuInS2、CuInSe2、Cu(ln,Ga)Se2等太阳能光电薄膜,用来组装低成本、高光电转换效率的薄膜太阳能电池。本发明的阳离子前驱体溶液的组分和含量为CuCl2∶GaCl3∶InCl3为0.5∶0∶1~2∶1∶1;pH值为1~3;硫离子源可采用pH值为10~13,浓度为0.1~1mol/l的Na2S水溶液或Na2SeSO3水溶液或硫脲水溶液。在所述阳离子前驱体溶液、阴离子前驱体溶液中通过连续吸附反应进行镀膜,并经氩气氛下400~ 550℃热处理后制得所需的光电薄膜。 | ||
搜索关键词: | 多元 光电 薄膜 连续 离子 吸附 反应 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多元硫属光电薄膜的连续离子吸附反应制备方法,本发明的具体方法包括如下步骤:1).阳离子前驱体溶液制备:阳离子前驱体溶液的组分和含量为CuCl2∶GaCl3∶InCl3为0.5∶0∶1~2∶1∶1;pH值为1~3;2).阳离子前驱体溶液制备:硫离子源可采用pH值为10~13,浓度为0.1~1mol/l的Na2S水溶液或Na2SeSO3水溶液或硫脲水溶液;3).镀膜:首先把清洗好的衬底浸入阳离子前驱体溶液进行吸附后,用去离子水洗涤以除去吸附不牢的阳离子;接着把衬底浸入到阴离子前驱体溶液,此时衬底上吸附的Cu2+、In3+阳离子和S2-、Se2-阴离子反应生成硫属化合物,然后再用离子水洗涤除去多余的没有反应的离子,上述吸附、洗涤和反应时间均为20~50秒;重复该反应循环30~50次,制得硫属半导体多元薄膜;4).热处理:所制薄膜在气流速200~300ml/min的氩气氛下进行热处理制得所需的光电薄膜,热处理温度为400~550℃,热处理时间1~2小时。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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