[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200410071372.X | 申请日： | 2004-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1603955A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | 森尾公隆;加藤哲也 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(C)含萘醌二叠氮基化合物、(D)有机溶剂、以及(E)含有特定的重复单元即通式(1)和通式(2)所示的重复单元的聚酯改性聚二烷基硅氧烷类表面活性剂，其中，R1表示碳原子数为1～3的直链或支链烷基，R2表示碳原子数为1～15的直链或支链烷基，R3表示聚酯改性基。根据本发明可以提供至少能够解决下述技术问题之一的正型光致抗蚀剂组合物：在高反射性的金属膜上涂布光致抗蚀剂组合物时抑制模糊斑的产生；在中央滴下后旋转的涂布法中抑制滴痕的产生以提高膜厚均匀性；以及在排出喷嘴式涂布法中抑制条状痕的产生以提高膜厚均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 正型光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(C)含萘醌二叠氮基化合物、(D)有机溶剂、以及(E)含下述通式(1)![]()
其中，R1表示碳原子数为1～3的直链或支链烷基，R2表示碳原子数为1～15的直链或支链烷基，所示的重复单元和下述通式(2)![]()
其中，R1表示碳原子数为1～3的直链或支链烷基，R3表示聚酯改性基，所示的重复单元的聚酯改性聚二烷基硅氧烷类表面活性剂。
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