[发明专利]制造设备有效
申请号: | 200410069433.9 | 申请日: | 2004-06-26 |
公开(公告)号: | CN1578549A | 公开(公告)日: | 2005-02-09 |
发明(设计)人: | 坂田淳一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H05B33/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥凌 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种气相淀积设备,该设备通过提高EL材料的利用效率而减少制造成本,并在形成EL层的产量或均匀性上是优越的,本发明并且提供气相淀积方法。本发明的特征是,在气相淀积室内,使安装了储藏蒸发材料的容器的蒸发源托架104a、105a相对于衬底101,只向一个方向(例如Z轴方向)以一定速度移动(或来回移动),而且,在和蒸发源托架的移动方向直交的方向(例如X轴方向)上以一定间隔搬运衬底。 | ||
搜索关键词: | 制造 设备 | ||
【主权项】:
1.一种制造设备包括:具备淀积室的淀积(成膜)设备, 其中,所述淀积室又包括:衬底托架,其中衬底相对于所述淀积室底面被垂直地放置,并且该衬底在被保持竖立的状态下在X轴方向上被移动;装有蒸发材料的蒸发源,该蒸发源提供在衬底对面;以和X轴呈直角的Z轴方向移动该蒸发源的装置,并且其中,在Z轴方向上升降所述蒸发源后,在X轴方向上以一定间隔移动所述衬底,反复重复该工艺以形成膜。
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