[发明专利]光刻装置和器件制造方法

摘要

光刻装置包括用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影光学组件(PL)，所述组件包括多个可移动的光学元件(M1－M6)和用于感测各个光学元件(M1)的位置和/或定向的多个传感器单元(25)，所述可移动光学元件(M1－M6)以彼此隔开的关系布置在支承框架(20，200)上，其中支承框架(20)通过至少两个互连部分(21，22，23)的一个组件至少部分地形成，每个所述部分可移动地安装至少一个所述光学元件(M1－M6)，并且固定地安装至少一个传感器单元(25)，其中支承框架(20)用作参考和安装框架，所述光学元件以所述彼此隔开的关系安装在该框架中。在可选的实施方案中，光学元件(M1－M6)可移动地安装在单个支承框架(200)上，传感器单元(25)固定地安装在单个支承框架(200)上。

主权项

1.一种光刻装置，包括：-用于提供辐射投射光束的照射系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于给投射光束的截面赋予图案；-用于保持基底的基底台；和-用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影光学组件，所述组件包括多个可移动的光学元件和多个用于感测各个光学元件的位置和/或定向的传感器单元，所述可移动的光学元件以隔开的关系布置在支承框架上，其特征在于所述支承框架包括至少两个互连部分构成的一个组件，每个所述部分可移动地安装至少一个所述光学元件，并且固定地安装至少一个所述传感器单元，其中所述至少两个互连部分用作参考和安装框架，在该框架中所述光学元件以所述隔开的关系进行安装。