[发明专利]一种X射线组合透镜的制作方法

摘要

一种X射线组合透镜的制作方法，包括以下步骤：(A)在经常规清洁处理的衬底(1)上生长一层电铸阴极薄膜(2)；(B)在电铸阴极薄膜(2)上以低转速涂覆第一层AZP4903正性光刻胶，并烘烤固化，烘烤温度为97.5℃至102.5℃，烘烤时间为8至12分钟；(C)在第一层AZP4903正性光刻胶上以低转速涂覆第二层AZP4903正性光刻胶，并烘烤固化，烘烤温度为87.5℃至92.5℃，烘烤时间为18至22分钟；(D)对AZP4903光刻胶进行光刻；(E)对光刻后的样品先烘烤，再显影；(F)对清洗后的样品进行电铸；(G)取出样品，用去离子水清洗；(H)样品去除剩余的光刻胶；(I)将暴露出来的电铸阴极薄膜(2)刻蚀掉，即制成为金属X射线组合透镜。本发明提供一种使成品率高、制作工艺简单、安全性好的X射线组合透镜的制作方法。

主权项

1、一种X射线组合透镜的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：(A)在经常规清洁处理的硅或玻璃衬底(1)上用溅射或蒸发方法生长一层金属材料电铸阴极薄膜(2)；(B)在电铸阴极薄膜(2)上以低转速涂覆第一层AZP4903正性光刻胶，并用热板烘烤固化，烘烤温度为97.5℃至102.5℃，烘烤时间为8至12分钟；(C)在固化后的第一层AZP4903正性光刻胶上以低转速涂覆第二层AZP4903正性光刻胶，并用热板烘烤固化，烘烤温度为87.5℃至92.5℃，烘烤时间为18至22分钟；(D)用紫外光刻方法对AZP4903光刻胶进行光刻，其光刻掩模版为已制备有组合透镜结构图形的铬版；(E)对光刻后的样品先烘烤，再显影，使样品上表面被紫外光照射区域的AZP4903光刻胶溶解于显影液中，未被照射区域的AZP4903光刻胶保留下来；(F)对清洗后的样品进行电铸；(G)取出电铸后的样品，用去离子水清洗，去除残留的电铸液；(H)将完成电铸工艺后的样品浸泡在丙酮溶液中，去除剩余的光刻胶，此时被光刻胶覆盖的电铸阴极薄膜(2)暴露出来；(I)用刻蚀方法将暴露出来的电铸阴极薄膜(2)刻蚀掉，所保留的结构包括有衬底(1)、电铸阴极薄膜(2)、电铸阴极薄膜(2)上的电铸金属结构(3)以及由它们共同形成的空气隙(4)，即制成为金属X射线组合透镜。