[发明专利]多弧等离子镀膜工艺无效
申请号: | 200410067482.9 | 申请日: | 2004-10-26 |
公开(公告)号: | CN1603453A | 公开(公告)日: | 2005-04-06 |
发明(设计)人: | 于洪潮 | 申请(专利权)人: | 于洪潮 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/02 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 313000浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 多弧等离子镀膜工艺,属于镀膜加工技术领域。包括以下步骤:对被镀件表面进行活化处理,清洗干净;将洗净的被镀件固定在转架上,炉膛内真空度保持1.0-5.0×10-2Pa,同时,将被镀件加热至100-150℃;将被镀件加负偏电压,电压值为50-200V,同时加入氩气10-100ml/min,轰击1-2min;选用钛、锆或铬为衬底材料,镀制底层;根据不同镀层颜色,在真空度为1.0-3.0×10-1Pa,偏置电压为20-100V,弧电流为50-100A条件下,进行镀膜。采用本发明所生产的成品镀层色差小、界面结合力好,能有效解决脱膜问题,其一次镀膜合格率可达95%以上,提高了镀膜产品的成材率、成本低。 | ||
搜索关键词: | 等离子 镀膜 工艺 | ||
【主权项】:
1.多弧等离子镀膜工艺,其特征在于包括以下步骤:(1)对被镀件表面进行活化处理,清洗干净;(2)将清洗干净的被镀件固定在镀膜机炉膛内的转架上,炉膛内真空度保持1.0-5.0×10-2Pa,同时,将被镀件加热至100-150℃;(3)将被镀件加负偏电压,电压值为50-200V,同时加入氩气10-100ml/min,轰击被镀件1-2min;(4)选用钛、锆或铬为衬底材料,镀制底层;(5)根据不同镀层颜色,在炉膛内加入反应气体,在真空度为1.0-5.0×10-1Pa,偏置电压为20-100V,弧电流为50-100A条件下,进行镀膜。
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