[发明专利]纳米掺杂复合低压氧化锌压敏电阻及其制作工艺无效

专利信息
申请号: 200410065448.8 申请日: 2004-12-03
公开(公告)号: CN1614720A 公开(公告)日: 2005-05-11
发明(设计)人: 孙丹峰;邴绍同;陈明 申请(专利权)人: 江苏苏净集团有限公司
主分类号: H01C7/10 分类号: H01C7/10;H01C7/112
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 215011江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种纳米掺杂复合低压氧化锌压敏电阻,它包括下列各成分:三氧化二铋、二氧化钛、氧化高钴、三氧化二镍、碳酸锰、硝酸铝、其余为氧化锌;本发明采用液相合成的单分散纳米TiO2与其它普通微米级粉体材料相复合,纳米TiO2颗粒在体系中均匀分布且完全不存在团聚体,由此方法制成的低压氧化锌压敏电阻电压梯度低于25V/mm,非线性系数、漏电流、限制电压比、能量容量和通流能力均优于传统方法生产的低压压敏电阻,批量生产成品率平均大于90%。
搜索关键词: 纳米 掺杂 复合 低压 氧化锌 压敏电阻 及其 制作 工艺
【主权项】:
1.一种纳米掺杂复合低压氧化锌压敏电阻,其特征在于:它包括下列按摩尔百分比配合的各成份三氧化二铋0.5%~0.8%;二氧化钛0.5%~1.5%;氧化高钴1.0%~1.5%;三氧化二镍0.1%~0.3%;碳酸锰0.3%~0.7%;硝酸铝0.002%~0.02%;其余为氧化锌;所述的二氧化钛为单分散纳米二氧化钛,其粒径小于20纳米,且在液相介质中以单颗粒形式存在。
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