[发明专利]形成薄膜的方法、制造器件的方法、光电装置和电子设备无效
| 申请号： | 200410063757.1 | 申请日： | 2004-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1575993A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 增田贵史 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/04 | 分类号： | B41J2/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 液体材料以液滴形式被放置在衬底上以在衬底上形成薄膜。液体材料中固体的浓度和液滴的干燥速度中至少一个被用作控制液滴的干薄膜形状的参数。此外，第一滴液滴被放置在衬底上，第一滴液滴被干燥以形成其形状为边部厚度大于中心部分厚度的干薄膜，第二滴液滴被放置在被第一滴液滴的干薄膜边缘部分环绕的区域中，以形成第二滴液滴的干薄膜。此外，液体材料以液滴形式被放置在衬底上以在衬底上形成薄膜，液滴的干薄膜通过收缩液滴而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 薄膜 方法 制造 器件 光电 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种通过以液滴形式在衬底上放置液体材料以在衬底上形成薄膜的形成薄膜方法，其中，液体材料中固体的浓度和液滴的干燥速度中至少任一个被用作控制所述液滴的干薄膜形状的参数。
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