[发明专利]高抗静电高效发光二极管及制作方法无效

专利信息
申请号: 200410062248.7 申请日: 2004-07-02
公开(公告)号: CN1588657A 公开(公告)日: 2005-03-02
发明(设计)人: 沈光地;邹德恕;郭霞;王新潮;徐遵图;韩军;张剑铭 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L23/60
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 张慧
地址: 100022*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 高抗静电高效发光二极管及制作方法,属于半导体光电子技术领域。它包含利用一导电型半导体材料制作的基板及发光二极管芯片,基板上制作有集成的双向稳压二极管,发光二极管芯片主要包含在一透明蓝宝石衬底及在此衬底上的GaN结构层和整面P电极、N电极,将发光二极管芯片倒装在该基板上。发光二极管有源区发出的光从背面蓝宝石端取出,增加了取光面积,可以提高发光二极管的发光效率1.5-2倍。由于基板上集成了抗静电保护双向稳压二极管,有效增强了发光二极管抗静电放电能力,又发光二极管直接通过电极与特殊制作的基板接触,增大了接触面积,改善了蓝宝石散热不佳的特性,可实现大功率输出,降低成本,提高器件可靠性等作用。
搜索关键词: 抗静电 高效 发光二极管 制作方法
【主权项】:
1.高抗静电高效发光二极管,它包含特殊制作的基板及发光二极管芯片,其特征在于:此发光二极管芯片主要包含在一透明蓝宝石衬底(1)及在此衬底上的GaN结构层(12)和整面P电极(3)、N电极(2);基板用重掺杂N型单面抛光硅单晶做衬底(9),在前述硅抛光表面生长有氧化层(7);在前述氧化层上局部形成有扩散窗口;在前述扩散窗口形成高浓度P型层;在前述P型层上形成欧姆接触层(6);在前述欧姆接触层上形成金属层(5),金属层连接前述发光二极管芯片的P电极(3)、N电极(2)之用;在前述欧姆接触层上形成延伸电极(8),用于前述发光二极管芯片和前述基板的电路连接。
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