[发明专利]研磨液组合物有效
| 申请号： | 200410061916.4 | 申请日： | 2004-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1576346A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 藤井滋夫;北山博昭 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 张晓威 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及含有α－氧化铝、中间氧化铝、氧化剂及水的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的减少被研磨基板的表面波纹的方法，及具有使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。上述研磨液组合物例如适用于研磨磁盘、光盘、光磁盘等磁记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件用基板。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1、含有α-氧化铝、中间氧化铝、氧化剂及水的研磨液组合物。
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