[发明专利]使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法无效
| 申请号： | 200410060062.8 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577101A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 哈瑞·休厄尔 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种液体浸渍光刻系统，其包含一曝光系统，该曝光系统系以电磁辐射曝光一基底、且还包含一聚集电磁辐射于基底上的投射光学系统。一种液体供应系统提供液体于投射光学系统与基底之间。投射光学系统被置于基底底下。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 倒置 晶片 投射 光学 接口 浸渍 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液体浸渍光刻系统，其包含：一曝光系统，其以电磁辐射曝光一基底并包含一将电磁辐射聚集于基底上的投射光学系统；及一液体供应系统，其提供液体于投射光学系统与基底之间，其中投射光学系统被置于基底底下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股股份有限公司，未经ASML控股股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410060062.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电动肘杆式模具夹紧装置
- 下一篇：光碟装置
