[发明专利]光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法无效
| 申请号： | 200410059459.5 | 申请日： | 2004-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1577111A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 李赫镇;金炳默;宋仙英;洪宪杓 | 申请（专利权）人： | 东友FINE－CHEM株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工艺中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对暴露于剥离液组合物的下部的金属膜质和氧化膜质不会引起损伤，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 剥离 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1、光致抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对组合物的总量，其含有5重量％～50重量％的有机胺化合物、10重量％～50重量％的乙二醇醚化合物、0～30重量％的水溶性有机溶剂、0.1重量％～10重量％的防腐蚀剂和余量的去离子水，
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友FINE－CHEM株式会社，未经东友FINE－CHEM株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410059459.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
