[发明专利]曝光头

摘要

本发明提供一种曝光头，第1微透镜阵列中排列有多个对应于DMD中的多个微镜的第1微聚光器件。设置了包括分别对应于多个第1微聚光器件而排列的多个小孔的小孔阵列。小孔阵列只让夫琅和费衍射像的主要部分透过。从小孔中透过的夫琅和费衍射像的主要部分，被第2微透镜阵列的第2微聚光器件成像在曝光面上。本发明的曝光头，能够有效地减少干扰光以及散射光，并将通过小孔阵列而投影在曝光面上的光束点的光束直径调整为所期望的大小。

主权项

1.一种曝光头，用来一边沿着扫描方向相对曝光面移动，一边通过沿着与上述扫描方向相交叉的行方向所排列的光束群对该曝光面进行二维曝光，其特征在于，包括：空间光调制器件，一维或二维排列有根据控制信号分别变化光调制状态的多个像素部，通过上述多个像素部将从光源部所入射的光束分割成多个像素光束，同时有选择地将该多个像素光束分别调制为曝光状态以及非曝光状态中的任何一种；第1微聚光器件阵列，与上述空间光调制器件中的多个像素部相对应地排列有多个第1微聚光器件；小孔阵列，被配置在上述第1微聚光器件的后侧焦面附近，同时排列有分别对应于上述多个第1微聚光器件的多个小孔，通过该小孔只让夫琅和费衍射像的主要部分透过，其中上述第1微聚光器件形成被上述空间光调制器件调制为上述曝光状态的像素光束的上述夫琅和费衍射像；以及第2微聚光器件阵列，具有与上述多个小孔相对应地排列的多个第2微聚光器件，通过上述多个第2微聚光器件将分别透过上述多个小孔的像素光束的实像形成在上述曝光面上。