[发明专利]制造母盘、模板、记录介质的方法及母盘、模板和记录介质无效
| 申请号： | 200410057679.4 | 申请日： | 2004-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1591630A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 川口优子;大野锐二;伊藤英一 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G11B7/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王玮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造光盘110的母盘105的方法，包括：层形成步骤，用于在衬底101上形成热敏材料层102；曝光步骤，用于将所述热敏材料层102部分曝光于激光束；以及凹坑和槽脊图案形成步骤，利用所述热敏材料层102的曝光部分和未曝光部分之间的蚀刻率之间的差别来形成凹坑和槽脊的图案。所述热敏材料层102至少包括锑和氧。当将氧的成分比定义为x(原子百分比)时，x是3或更大且50或更小。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 母盘 模板 记录 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造记录介质的母盘的方法，包括：层形成步骤，用于在衬底上形成热敏材料层；曝光步骤，用于将所述热敏材料层部分曝光于激光束；以及凹坑和槽脊图案形成步骤，使用所述热敏材料层的曝光部分和未曝光部分之间的蚀刻率之间的差别来形成凹坑和槽脊的图案，其中所述热敏材料层至少包括锑和氧，以及当将氧的成分比定义为x(原子百分比)时，x定义为3≤x≤50。
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