[发明专利]一种磁头的制造方法无效
申请号: | 200410056129.0 | 申请日: | 2004-08-12 |
公开(公告)号: | CN1734559A | 公开(公告)日: | 2006-02-15 |
发明(设计)人: | 藤井隆司 | 申请(专利权)人: | 新科实业有限公司;新科技研有限公司 |
主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人: | 郝传鑫;温旭 |
地址: | 香港新界葵涌葵*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁头的制造方法,其包括研磨加工磁头空气支承面(ABS)的方法,其中,所述磁头包含薄膜磁头单元部,该薄膜磁头单元部至少具有从记录媒体读取磁数据的磁阻(MR)单元,以及在记录媒体上进行磁数据写入的感应型磁变换单元中的一种。该方法包括三个阶段:一为在空气支承面上形成临时保护膜的阶段;二为在临时保护膜形成为空气支承面表面的一部分后,在空气支承面上形成凹凸部的凹凸部形成阶段,其中所述凹凸部用于在薄膜磁头单元部在记录媒体上进行读取以及写入之时,对磁头的飞行高度进行控制;三为从凹凸部形成的空气支承面上除去临时保护膜的临时保护膜除去阶段。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁头 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种磁头的制造方法,所述磁头具有至少包括如下两单元中的一种的薄膜磁头单元部:从记录介质读取磁数据的磁阻效果单元以及在记录媒体上进行的磁数据的写入的感应型磁变换单元;所述方法包括研磨加工与记录媒体相对的空气支承面的方法;其特征在于所述方法包括如下步骤:在所述空气支承面形成临时保护膜的步骤;在所述临时保护膜形成为上述空气支承面表面的一部分之后,在上述空气支承面上形成凹凸部的步骤;其中所述凹凸部用于在上述薄膜磁头单元部在从记录媒体上读取或者写入数据之时,对上述磁头的飞行高度进行控制;以及从形成上述凹凸部的空气支承面上除去所述临时保护膜的临时保护膜消除步骤。
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