[发明专利]彩色滤光基板及薄膜的制作方法无效
| 申请号： | 200410055660.6 | 申请日： | 2004-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1734323A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 林佳德;官大双 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/23;C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种彩色滤光基板的制作方法，其包括：(a)于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且这些开口暴露出基板的部分区域；(b)于开口所暴露的基板的部分区域上形成一滤光材料层；(c)于滤光材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；(d)移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，其中滤光材料层形成多个第一滤光薄膜；以及(e)重复步骤(a)至(c)至少一次，并移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，以于基板上的第一滤光薄膜以外的其它位置形成多个第二滤光薄膜。此彩色滤光基板的制作方法可于基板上形成具有垂直的侧壁的滤光薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 薄膜 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种彩色滤光基板的制作方法，包括：(a)于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中该第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且该些开口暴露出该基板的部分区域；(b)于该些开口所暴露的该基板的部分区域上形成一滤光材料层；(c)于该滤光材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；(d)移除该第一光致抗蚀剂层与该第二光致抗蚀剂层，以形成多个第一滤光薄膜；以及(e)重复步骤(a)至(c)至少一次，并移除该第一光致抗蚀剂层与该第二光致抗蚀剂层，以于该基板上的该些第一滤光薄膜以外的其它位置形成多个第二滤光薄膜。
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