[发明专利]制造叠层结构的方法、叠层结构、显示器件以及显示单元无效
| 申请号： | 200410055016.9 | 申请日： | 2004-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1575057A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 横山诚一;大和田拓央;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/26;H05B33/22;H05B33/12;G09F9/35;H01L23/48 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造叠层结构的方法，其能够通过防止侧面蚀刻构图成所需形状。将由ITO等制成的粘接层、由银或含银合金制成的反射层、由ITO等制成的阻挡层依次层叠在基材上，其间具有作为基底层的平面化层，之后，在阻挡层上形成掩模，并利用该掩模同时蚀刻粘接层、反射层和阻挡层，以形成叠层结构。作为蚀刻气体的实例，优选包含甲烷(CH4)的气体。该叠层结构用作阳极，并在叠层结构上依次层叠绝缘膜、包括发光层的有机层和作为阴极的公共电极，以便形成有机发光器件。该叠层结构可以用作液晶显示器的反射电极、反射膜或配线。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 结构 方法 显示 器件 以及 单元 | ||
【主权项】：
1.一种制造叠层结构的方法，包括如下步骤：在基材上层叠多个层；在该多个层上形成掩模；及利用该掩模同时蚀刻该多个层。
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