[发明专利]TNF-α生成抑制剂有效
申请号: | 200410054677.X | 申请日: | 2001-05-31 |
公开(公告)号: | CN1590375A | 公开(公告)日: | 2005-03-09 |
发明(设计)人: | 伴正和;须原宽;堀内正人;山本悟功;榎本裕志;井上博行 | 申请(专利权)人: | 参天制药株式会社 |
主分类号: | C07D213/60 | 分类号: | C07D213/60;C07D213/24;A61K31/44;A61P37/02;A61P29/00;A61P19/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 陈文平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供TNF-α生成抑制剂,它们可用作治疗剂,用于治疗自身免疫疾病如类风湿性关节炎。本发明的具有通式[1]所示结构的新化合物或其盐具有出色的TNF-α生成抑制活性,其中“A”是-(NR4)-;“B”是亚烷基或亚链烯基;R1、R2和R4是氢、烷基、链烯基、金刚烷基等;R3是芳基或不饱和杂环;并且“X”是氧或硫。 | ||
搜索关键词: | tnf 生成 抑制剂 | ||
【主权项】:
1.通式[1]表示的化合物或其盐,
其中“A”是-(NR4)-;“B”是其链中可包含-O-、-S-、-(NR7)-、-CO-、-N=或者下式所示基团的亚烷基或亚链烯基,
其中亚烷基和亚链烯基可被羟基、烷氧基、环烷基、芳基、甲硅烷氧基或者饱和或不饱和的杂环取代,并且“B”可以与“A”一起形成饱和的杂环;R1、R2和R4相同或不同,为氢、烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烯基、羟基、酰基或氨基,其中烷基、链烯基、炔基、环烷基或环烯基可被卤素、羟基、氨基、环烷基、金刚烷基、芳基、羧基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基羰基、氰基或者饱和或不饱和的杂环取代;R1和R2、R2和R4各自可形成饱和或不饱和的杂环;R3是芳基或者不饱和杂环;R7是氢或烷基;“X”是O或S;“n”是1-5的整数;并且上述氨基、羟基和氨基羰基的各个氢可被下列基团取代:烷基、环烷基、金刚烷基、金刚烷基烷基、芳基、芳烷基、酰基、烷氧基烷基、烷氧羰基、烷基氨基羰基、环烷氧基羰基、芳基烷氧羰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、卤代烷氧羰基、咪唑基羰基、吡啶基羰基、饱和或不饱和的杂环、或者被饱和或不饱和的杂环取代的烷基。
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