[发明专利]超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法无效
| 申请号： | 200410053815.2 | 申请日： | 2004-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN1598041A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | 吴永刚;戚同非;王占山;王勇 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/26 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈树德 |
| 地址： | 20009*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制备超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的方法。采用全物理气相沉积方法，在高真空环境中将脱膜剂、二酐和二胺先后沉积于抛光的玻璃衬底上，然后在适当的环境温度中进行热处理，使二酐和二胺形成聚胺酸，并进一步环亚胺化。将环状铜框架粘贴于聚酰亚胺薄膜的表面，接着置于去离子水中进行脱膜，最后形成超薄的自支撑聚酰亚胺薄膜。所制备的薄膜可应用于短波光学中的滤光元件。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄 支撑 聚酰亚胺 滤光 薄膜 物理 沉积 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法，其特征在于：a、采用双舟单源的蒸发工艺，两个蒸发钼舟进行适当的并联，然后与低压蒸发电源输出端相连接，在两个蒸发钼舟内分别放入均苯四甲酸二酐(PMDA)和4，4′-二氨基二苯醚(ODA)单体；b、用热蒸发方法先在抛光衬底上蒸镀脱膜材料，接着同时蒸镀上均苯四甲酸二酐(PMDA)和4，4′-二氨基二苯醚(ODA)单体单体，或是以块体脱膜材料作为衬底，同时直接蒸镀均苯四甲酸二酐(PMDA)和4，4-二氨基二苯醚(ODA)单体单体，通过改变放入单体的质量以及流过钼舟的电流，以控制两个单体的蒸发速率和相对比例；在高真空环境中对单体进行100-200℃加温预处理，使单体反应生成聚酰胺酸，接着在真空或其它气体环境中对聚酰胺酸薄膜进行200-350℃的热处理，使之脱水环亚胺化，最后在去离子水中进行脱膜。
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