[发明专利]薄膜真空荧光显示器制备工艺

摘要

本发明公开了一种薄膜真空荧光显示器制备工艺，在玻璃基板上进行铝溅射，使基板的表面均匀覆盖一层铝膜，然后对基板进行成像工程，使基板的表面呈现所要求的电气布线图形，所述的成像工程包括P/R涂敷、Pre－Bake烘干、曝光、显影、蚀刻、去膜5个步骤。本发明改变了目前厚膜VFD生产工艺中配线通过丝网印刷方式形成的旧工艺，使得薄膜VFD产品单位面积内配线密度、配线精密度、配线的复杂性都得以大幅度的提高，并进一步使VFD最大尺寸从厚膜VFD的150*50mm²提高到薄膜VFD的220*80mm²，本发明生产的薄膜VFD产品具有显示区域面积大、显示内容丰富等优点。

主权项

1.一种薄膜真空荧光显示器制备工艺，在玻璃基板上进行铝溅射，使基板的表面均匀覆盖一层铝膜，然后对基板进行成像工程，使基板的表面呈现所要求的电气布线图形，其特征在于，所述的成像工程包括如下步骤：(a)P/R涂敷：在覆盖有铝膜的玻璃基板上均匀涂覆一层P/R感光膜；(b)Pre-Bake烘干：对玻璃基板进行热处理，蒸发或烘干P/R感光膜中的溶剂；(c)曝光：在玻璃基板上放置带有图案的Cr-Mask或Al-Mask，并用高压水银灯进行照射，Mask覆盖之外的P/R感光膜被曝光；(d)显影：使曝光后的玻璃基板经过碱性显影液，去除玻璃基板上曝光部分的P/R感光膜；(e)蚀刻：经过显影的过程，又在除去P/R感光膜的铝膜表面喷洒刻蚀液，使玻璃基板上Mask图案以外的铝被蚀刻掉；(f)去膜：使用去膜液进一步除去玻璃基板铝膜表面Mask图案上的P/R感光膜。