[发明专利]抗菌、除臭剂组合物及其制备方法无效
申请号: | 200410051534.3 | 申请日: | 2004-09-21 |
公开(公告)号: | CN1586629A | 公开(公告)日: | 2005-03-02 |
发明(设计)人: | 游锡武 | 申请(专利权)人: | 游锡武 |
主分类号: | A61L9/01 | 分类号: | A61L9/01;//A61L101∶00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510520广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种抗菌、除臭剂组合物及其制备方法,该组合物是通过在常温常压下将甲壳素衍生物溶解于甲壳素衍生物的溶剂,搅拌静置后,加入纳米级二氧化硅、苦参总碱及去离子水,静置过滤制成的。用该抗菌、除臭剂组合物喷洒在床单、沙发、地毯、汽车内装饰、空调出风口等上面,干后形成一层缓释膜,能缓慢地释放抗菌作用,而其中的纳米级二氧化硅有很大的比表面积,能够吸附多种有害或有味的气体,起到抗菌、除臭的功能,而且长效、无毒、环保、成本低廉。经试验表明本发明有极好的抗菌效果,能快速消除各种臭味及异味,在几分钟之内即见效,并且能保持30天以上有效。 | ||
搜索关键词: | 抗菌 除臭剂 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抗菌、除臭剂组合物,按重量百分比该组合物由以下组分组成:甲壳素衍生物 0.1%~5%甲壳素衍生物的溶剂 1%~3%苦参总碱 1%~20%纳米级二氧化硅 0.1%~3%余量为去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于游锡武,未经游锡武许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410051534.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:双气囊增压气泵
- 下一篇:植物有效成分的解吸-热提两步提取法