[发明专利]Ta2O5基透明陶瓷的激光制备方法无效
申请号: | 200410050131.7 | 申请日: | 2004-06-28 |
公开(公告)号: | CN1587200A | 公开(公告)日: | 2005-03-02 |
发明(设计)人: | 蒋毅坚;季凌飞 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C04B35/495 | 分类号: | C04B35/495;C04B35/64 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种Ta2O5基透明陶瓷制品及其激光快速制备方法,属于陶瓷材料制备领域。该陶瓷由以下方法制备:将Ta2O5粉料或按化学计量配比92∶8混合的Ta2O5和TiO2粉料,在1200℃~1350℃预烧4.8~5.6小时,然后压成Ta2O5基陶瓷坯材;在50~90s时间内,采用功率密度800~1250w/cm2的激光辐照上述Ta2O5基陶瓷坯材,进行预热;上述预热结束后,采用功率密度4800~5700w/cm2的激光烧结30~50s后,试样冷却至室温。该Ta2O5基透明陶瓷(如图所示)密度高,最低相对密度大于97%,平均相对密度近似理论密度;所用原料粉可以为普通工业用粉料,工艺简化,能耗低、时耗小,大大节约制备成本。 | ||
搜索关键词: | ta sub 透明 陶瓷 激光 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种Ta2O5基透明陶瓷的激光制备方法,其特征在于,它包括以下步骤:步骤1.将Ta2O5粉料或按化学计量配比92∶8混合的Ta2O5和TiO2粉料,在1200~1350℃预烧4.8~5.6小时,然后压成Ta2O5基陶瓷坯材;步骤2.在50~90s时间内,采用功率密度800~1250w/cm2的激光辐照上述Ta2O5基陶瓷坯材,进行预热;步骤3.上述预热结束后,采用功率密度4800~5700w/cm2的激光烧结30~50s后,试样冷却至室温。
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