[发明专利]像素位置特定方法、图像偏移修正方法、及图像形成装置无效
| 申请号： | 200410048578.0 | 申请日： | 2004-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1573414A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 高田伦久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/10 | 分类号： | G02B26/10;B41J2/44 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供像素位置特定方法，图像偏移修正方法，以及图像形成装置。第1曝光头连接点附近的第1连接像素打开，沿Y轴方向移动光束位置检测机构，在受光面上检测XY坐标中的第1曝光光束位置，将第2曝光头连接点附近的第2连接像素打开，沿Y轴方向移动上述光束位置检测机构，检测上述受光面上的曝光光束的XY坐标位置，由上述光束位置检测机构在Y轴方向上的移动量，和在上述受光面上的第1曝光头和上述第2曝光头曝光光束位置，特定上述第1和第2特定像素的位置。在多头曝光装置中减小由各曝光头形成的图像之间的偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 位置 特定 方法 图像 偏移 修正 形成 装置 | ||
【主权项】：
1.一种像素位置的特定方法，其在将能够选择性地打开/关闭多个像素的多个曝光头，按一定方向扫描，形成图像的图像形成装置中，测定各曝光头的曝光光束位置，以特定上述曝光头连接点的像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，在上述曝光光束位置的测定中，使用沿着相对于上述扫描方向平行的Y轴方向，在基准面上能够移动的光束位置检测机构，同时，将第1曝光头连接点附近的第1连接像素打开，在上述光束位置检测机构具备的受光面上，检测XY坐标中的第1曝光光束位置，将第2曝光头连接点附近的第2连接像素打开，同时，沿Y轴方向移动上述光束位置检测机构，检测上述受光面上XY坐标中的第2曝光光束位置，由上述光束位置检测机构在Y轴方向上的移动量，和第1曝光头和上述第2曝光头在上述受光面上的曝光光束位置，特定上述第1连接像素和上述第2连接像素在上述基准面上的位置，以特定连接像素的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410048578.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
