[发明专利]光刻装置，设备制造方法和角编码器有效
| 申请号： | 200410047720.X | 申请日： | 2004-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1542554A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | M·H·A·里德斯;H·J·M·梅杰;E·A·F·范德帕斯奇;M·J·M·伦肯斯;T·A·M·柳杰尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在光刻投影装置中，用于测量投影系统PL相对于参考系RF的位置的测量系统包括相对于用于测量衬底台座WT位置的测量系统中对应传感器而刚性安装的传感器。角编码器将来自靶41的光向下发送到对倾斜具有相反敏感性的两条光路中，用该角编码器测量投影系统PL围绕其光轴的旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 设备 制造 方法 编码器 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：-提供投影辐射束的辐射系统；-支承构图设备的支承结构，该构图设备用于根据所需图案将投影束进行构图；-支持衬底的衬底台座；-将构图的束投影到衬底靶部分的投影系统；-参考系；以及-用于测量所述衬底台座相对于所述参考系的位置和/或位移的第一测量系统，所述测量系统包括多个安装在所述参考系上、并且具有各自测量轴的第一传感器，其特征在于：-用于测量所述投影系统相对于所述参考系的位置和/或位移的第二测量系统，所述测量系统包括多个安装在所述参考系上、并且具有各自测量轴的第二传感器，-其中第二测量系统中至少一个传感器具有穿过所述投影系统的不变点的测量轴。
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