[发明专利]反射型液晶显示装置的制造方法有效
| 申请号： | 200410047627.9 | 申请日： | 2004-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN1637534A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 郑奉官;崔贤默;金基用;崔承镇 | 申请（专利权）人： | 京东方显示器科技公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李贵亮;杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种可在整个基板上形成均匀反射角度的压花的反射型液晶显示装置的制造方法。基包括如下工序：在形成含有薄膜晶体管的底层的玻璃基板上涂敷底片型有机绝缘膜的工序；软烘焙(soft bake)所述有机绝缘膜的工序；不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜一次曝光的工序，以使所述有机绝缘膜的整个表面交联结合(cross linking)；使用具有开口部的曝光掩膜进行二次曝光的工序，以仅使曝光所述一次曝光的有机绝缘膜的局部交联结合；在快速烘焙(post bake)所述一次及二次曝光的有机绝缘膜并使其硬化同时，在所述未二次曝光的有机绝缘膜的局部通过产生存在于所述有机绝缘膜内的溶剂(solvent)的放气(out gassing)，形成压花的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 液晶 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种反射型液晶显示装置的制造方法，其包括如下工序：在形成含有薄膜晶体管的底层的玻璃基板上涂敷底片型有机绝缘膜的工序；软烘焙所述有机绝缘膜的工序；不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜一次曝光的工序，以使所述有机绝缘膜的整个表面交联结合；使用具有开口部的曝光掩膜进行二次曝光的工序，以仅使曝光所述一次曝光的有机绝缘膜的局部交联结合；在快速烘焙所述一次及二次曝光的有机绝缘膜并使其硬化的同时，在所述未二次曝光的有机绝缘膜的局部通过产生存在于所述有机绝缘膜内的溶剂的放气，形成压花的工序。
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