[发明专利]薄膜图形形成方法及器件制造方法、光电装置及电子设备无效
| 申请号： | 200410045309.9 | 申请日： | 2004-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1575102A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 平井利充 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/12 | 分类号： | H05K3/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种薄膜图形形成方法及器件制造方法、光电装置及电子设备，该薄膜图形形成方法，通过在基板(P)上配置功能液而形成薄膜图形，其特征在于，具有：在所述基板(P)上突出设置与所述薄膜图形对应的围堰(B)的围堰形成工序(S1)；在所述围堰(B)上通过四氟化碳等离子处理而赋予疏液性的疏液化处理工序(S3)；在赋予所述疏液性的所述围堰(B)之间配置所述功能液的材料配置工序(S4)。因此，能够良好地实现细线化。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 图形 形成 方法 器件 制造 光电 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜图形的形成方法，通过在基板上配置功能液而形成薄膜图形，其特征在于，具有：在所述基板上形成与所述薄膜图形对应的围堰的围堰形成工序；在所述围堰上赋予疏液性的疏液化处理工序；在赋予所述疏液性的所述围堰之间配置所述功能液的材料配置工序。
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