[发明专利]热记录介质有效
申请号: | 200410045132.2 | 申请日: | 2004-03-15 |
公开(公告)号: | CN1537730A | 公开(公告)日: | 2004-10-20 |
发明(设计)人: | 川口健;花田和行;鸟井克俊;梅津基昭;上田智现 | 申请(专利权)人: | 大日精化工业株式会社;浮间合成株式会社 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;B41M5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 黄益芬;巫肖南 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种热墨带,具有基片、在基片的一面上的热记录层、和在基片的另一面上的背层。本发明的背层包含一种聚氨酯树脂,它是由一种在分子一端具有至少一个含活性氢的基团的低分子量聚合物、一种具有至少一个活性氢基团和至少一个除羟基之外亲水基团的化合物,与聚异氰酸酯反应而得到。所述背层具有优异的与基片粘附性,对热头的耐热性和滑动性;良好的印刷性;没有杂质从背层迁移至油墨层;和不与热头粘附。这种背层只要将包含以上聚氨酯树脂的涂料涂到基片的表面上,干燥该涂层,就能在该基片的表面上形成。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种热记录介质,具有基片、位于基片的一面上的热记录层、和位于基片反面上的背层,其中所述背层包含作为形成涂膜组分的一种聚氨酯树脂,该树脂是通过至少一种在分子一端具有至少一个含活性氢的基团的低分子量聚合物(以下称作“化合物1”),和至少一种具有至少一个含活性氢的基团和至少一个除羟基基团之外的亲水基团的化合物(以下称作“化合物2”),与至少一种聚异氰酸酯(以下称作“化合物3”。)反应而得到;且包含衍生自至少一种化合物1的至少一个链段(以下称作“链段1”)、衍生自至少一种化合物2的至少一个另一种链段(以下称作“链段2”)、和衍生自至少一种化合物3的至少一个再另一种链段(以下称作“链段3”)。
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