[发明专利]投影曝光装置无效
| 申请号： | 200410043359.3 | 申请日： | 2004-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1550875A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | 石川弘美;大场昌宏;高田伦久;兴梠裕 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03B27/32 | 分类号： | G03B27/32;G02F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在感光材料(150)和像一侧远心的第二成像光学系统(52)之间，配置具有调节通过第二成像光学系统(52)在感光材料(151)上成像的像的焦点的楔形棱镜对(540)的空气间隔调节部(54)。用DMD80将从光源部件(60)发出，通过DMD照射光学系统(70)传播的光进行空间光调制，形成光的2维图案，使空间光调制的2维图案通过光学系统(50)和所述空气间隔调节部(54)，在感光材料(150)上成像，将该2维图案投影到感光材料(150)上，进行曝光。在投影曝光装置中，更容易并且以更短时间进行将空间调制的2维图案投影到感光材料上时的对焦。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1、一种投影曝光装置，包括：对从光源发出的光进行空间光调制并且形成2维图案的空间光调制部件；和使已进行空间光调制的2维图案在感光材料上成像的像一侧远心的成像光学系统；并将所述2维图案投影到所述感光材料上，其特征在于，备有：空气间隔调节部件，其配置在所述感光材料和所述成像光学系统之间，变更该感光材料和成像光学系统之间的空气间隔，调节使所述2维图案成像时的焦点。
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