[发明专利]透明导电膜的图案形成方法有效
| 申请号： | 200410042100.7 | 申请日： | 2004-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1551250A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | 宫川拓也 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;G02F1/1343;H05K3/10;G09F9/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种透明导电膜的图案形成方法，其特征是，由在基板表面将分散了铂族元素的特定的溶液涂布成规定形状的敏化处理工序、用于使所述铂族元素固定在基板表面的退火处理工序、将所述基板以规定时间浸渍在锡镀覆液中而在实施了所述敏化处理的位置上堆积锡的导电膜的成膜工序、对该锡的导电膜进行氧化处理而获得透明导电膜的氧化工序构成，本发明可以提供电传导性、透光性良好并且电极图案的形成容易的透明电解膜的图案形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透明导电膜的图案形成方法，其特征是，具有：在基板表面形成由铂族元素制成的特定的敏感性图案的催化剂层形成工序；将所述基板浸渍在镀覆液中而在所述敏感性图案的表面上利用非电解镀堆积锌或锡的氧化物的成膜工序；以及将堆积于所述敏感性图案的表面上的氧化锌或氧化锡加热而制成透明导电膜的退火工序。
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