[发明专利]基底及其制造方法、微透镜基底、透射屏和后投射器无效
| 申请号： | 200410039763.3 | 申请日： | 2004-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1519588A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 清水信雄;山下秀人 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种根据本发明制造具有多个凹面部分(3)的基底(5)的方法，包括如下步骤：在该基底(5)上形成掩模(6)，通过如喷射处理的物理方法或用激光束照射在该掩模(6)上形成多个初始孔(61)，以及通过用该多个初始孔(61)对该掩模(6)进行蚀刻处理而在基底(5)中形成多个凹面部分。在进行喷射处理的情况下，平均直径在50到100μm范围内的玻璃珠被用作喷射介质。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 及其 制造 方法 透镜 透射 投射 | ||
【主权项】：
1.一种制造具有多个凹面部分的基底的方法，该方法包括如下步骤：在该基底上形成掩模；通过物理方法在该掩模上形成多个初始孔；以及通过用该多个初始孔对该掩模进行蚀刻处理在该基底中形成多个凹面部分。
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