[发明专利]阳极化处理设备无效
| 申请号： | 200410032371.4 | 申请日： | 2000-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1532307A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 岩崎由希子;西田彰志;坂口清文;浮世典孝 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02;H01L21/02;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种阳极化处理设备，包括，在用于阳极化处理的基片的周边部分，有与基片的背面接触的第一电极和与第一电极相对的第二电极，在它们之间插入基片；第一电极具有与第二电极大体相同的形式。该设备可用于以小力分离薄膜半导体层，所述薄膜半导体层几乎无裂、断或损，可高效率地制造高性能的产品。 | ||
| 搜索关键词： | 阳极 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种阳极化处理设备，包括，在用于阳极化处理的基片的周边部分，有与基片的背面接触的第一电极和与第一电极相对的第二电极，在它们之间插入基片；第一电极具有与第二电极大体相同的形式。
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