[发明专利]光敏组合物及其使用的新型化合物有效
| 申请号： | 200410031934.8 | 申请日： | 2004-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1534379A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 涉谷明规 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光敏组合物，其包含：由此处定义的式(1)表示的敏化染料；可以生成自由基、酸或碱的引发剂化合物；和其物理或化学性能被自由基、酸和碱中的至少一种不可逆地改变的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 组合 及其 使用 新型 化合物 | ||
【主权项】：
1.一种光敏组合物，其含有：(A)由下式(1)表示的敏化染料：![]()
其中A表示一种任选取代的芳环或杂环；X表示氧原子、硫原子或-N(R1)-；Y表示氧原子或-N(R1)-；R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或一价非金属原子的基团；并且A和R1、R2或R3可以相互连接形成脂族环或芳环；(B)可以生成自由基、酸或碱的引发剂化合物；和(C)其物理或化学特性被自由基、酸和碱中的至少一种不可逆地改变的化合物。
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