[发明专利]用于抛光垫窗口的抗反射层有效
| 申请号： | 200410028320.4 | 申请日： | 2004-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN1530205A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 约翰·V·H·罗伯茨 | 申请（专利权）人： | 罗德尔控股公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B49/12;H01L21/302 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在化学机械整平(CMP)系统中使用的用于抛光垫窗口的抗散射层。发明尤其适用于具有粗糙下表面窗口的情况。以显著减小光散射的方式在窗口的粗糙下表面上形成抗散射层，同时使得晶片的光学原位测量经受CMP工艺。减小的光散射导致信号强度增加，其有利于更耐久的光学原位测量能力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 窗口 反射层 | ||
【主权项】：
1.一种设备，包括：具有在其中形成一孔的抛光垫体；在该孔中安装的窗口，该窗口的下表面具有能够散射入射到其上的光的表面粗糙度；和在窗口的下表面上形成的抗散射层，以通过粗糙的下表面减小光的散射。
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