[发明专利]真空镀膜装置无效
| 申请号： | 200410027107.1 | 申请日： | 2004-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1690244A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 黄全德;黄文正 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明是一种真空镀膜装置，其包括一真空腔室、一旋转支撑组件、一基板支撑架、一蒸镀源，基板支撑架设置于真空腔室内，其与旋转支撑组件连接，包括多个基板，蒸镀源位于真空腔室内与基板支撑架相对位置处，该真空镀膜装置进一步包括一翻面装置和一翻面控制装置，翻面控制装置设置于真空腔室外，该翻面装置位于真空腔室内，且与该基板支撑架连接，通过该翻面装置和翻面控制装置可使该多个基板于真空腔室内水平翻转。本发明镀膜装置可使基片的一表面镀膜完成后，无需降温、破真空，取出翻面，减少了加热和抽真空次数。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜装置，包括一真空腔室，一旋转支撑组件，一基板支撑架，一蒸镀源，基板支撑架设置于真空腔室内，与旋转支撑组件连接，且包括多个基板，蒸镀源位于真空腔室内与基板支撑架相对位置处，其特征在于：该真空镀膜装置进一步包括一翻面装置和一翻面控制装置，翻面控制装置设置在真空腔室外，该翻面装置位于真空腔室内，且与该基板支撑架连接，通过该翻面装置和翻面控制装置可使该多个基板于真空腔室内水平翻转。
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