[发明专利]一种基于{100}晶面硅锭制作的红外闪耀光栅结构及方法有效

专利信息
申请号: 200410025197.0 申请日: 2004-06-16
公开(公告)号: CN1584634A 公开(公告)日: 2005-02-23
发明(设计)人: 李铁;王翊;王跃林;林心如;奚庆中 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新漫传感技术研究发展有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种基于{100}晶面硅锭制作的红外闪耀光栅结构。其关键是对{100}晶面硅锭进行特定角度θ规半导体工艺,包括光刻、氧化、各向异性湿法腐蚀等,从而制作出特定的闪耀光栅倾角,实现闪耀光栅结构;其光栅闪耀角θb和切割角度θ闪耀角范围可以从1到54度。由于本发明采用硅的慢腐蚀面{111}面来保证闪耀光栅的闪耀角,具有精度高、易集成、工艺简单、成本低廉、易于控制、成品率高、重复性好、易批量生产等优点,特别适合于量大面广、需要集成的场合使用。
搜索关键词: 一种 基于 100 晶面硅锭 制作 红外 闪耀 光栅 结构 方法
【主权项】:
1.一种基于{100}晶面硅锭制作的红外闪耀光栅结构,其特征在于光栅闪耀角θb和切割角度θc的关系式为θb+θc=54.7°。
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