[发明专利]掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法无效

专利信息
申请号: 200410024820.0 申请日: 2004-06-01
公开(公告)号: CN1583620A 公开(公告)日: 2005-02-23
发明(设计)人: 陈丹平;夏金安;邱建荣;朱从善 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: C03C3/06 分类号: C03C3/06;C03C4/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法,主要是用溶液浸渍法将0.2~8.0wt%的钕离子分散在具有纳米级孔的SiO2的含量超过95%的高硅氧微孔玻璃中,为了增强钕离子的发光强度,同时还浸入Y3+、V5+和Al3+离子。在空气或者氧气中经过1000℃-1200度℃温度的固相烧成消除了微孔的密实透明的高硅氧玻璃。该玻璃经过精密抛光后在激光谐振腔中经808nm的激光泵浦可以发出1060nm激光。这种玻璃材料适合用于制备微片激光器。
搜索关键词: 掺钕高硅氧 激光 玻璃 制造 方法
【主权项】:
1、一种掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法,其特征在于该方法包括下列步骤:①制备多孔高硅氧玻璃,该多孔玻璃的组成如下:组成 Wt%SiO2 >95%B2O3 1~2Al2O3 1~3%该多孔玻璃的孔径为1.0~10纳米,小孔占玻璃的体积比为24~35%;②配制钕离子溶液;③将多孔高硅氧玻璃浸入钕离子溶液中,将钕离子引入微孔玻璃中;④每次浸入后要将微孔玻璃中放入高温炉中慢速升温到250-850℃干燥;⑤将掺有钕离子的多孔玻璃放入高温炉,在空气或者氧气中经过1050-1200℃的固相烧结,消除微孔成为密实透明的掺钕高硅氧激光玻璃。
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