[发明专利]结栅场效应晶体管有效
申请号: | 200410009434.4 | 申请日: | 2004-08-17 |
公开(公告)号: | CN1599075A | 公开(公告)日: | 2005-03-23 |
发明(设计)人: | 陈刚;黄如;张兴;王阳元 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种结栅场效应晶体管,属于微电子半导体技术领域。该结栅场效应晶体管包括:源区、漏区、体以及控制栅,控制栅为掺杂的单晶硅,控制栅与体固定连接,形成P-N结。不同于传统的场效应晶体管的结构,即金属-绝缘层-半导体的结构,本发明去除了常规器件中的栅氧,实现了半导体-半导体结构,由于没有了栅氧的隔离,本发明器件的散热效能好,非常适合大规模高密度集成。特别对于双栅结栅场效应晶体管,由于体为正方形设计,故其器件结构为全对称结构,是基于完全相同的n型场效应晶体管和p型场效应晶体管。 | ||
搜索关键词: | 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
1、一种结栅场效应晶体管,包括:源区、漏区、体以及控制栅,其特征在于:控制栅为掺杂单晶硅,控制栅与体固定连接,形成P-N结。
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