[发明专利]具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410005574.4 申请日: 2004-02-14
公开(公告)号: CN1531098A 公开(公告)日: 2004-09-22
发明(设计)人: A·格拉茨;K·克诺布洛奇;F·舒勒 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法。根据本发明地一种电路装置,具有一个穿过一个电荷存储层(18)及一个掺杂半导体层(14)的沟渠。这个沟渠同时具有多种不同的作用,包括在相邻的组件之间形成绝缘的作用、将电荷存储层结构化的作用、以及将掺杂半导体层(14)区隔为不同区段的作用。
搜索关键词: 具有 沟渠 绝缘 半导体 电路 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体电路装置(76),具有一个衬底(10),在此衬底(10)上按照给定的顺序依次承载:-第一种导电型的一个掺杂半导体层(14),-一个电绝缘层(16),-一个适于用来储存电荷的导电或电绝缘的电荷存储层(18),这种半导体电路装置至少具有一个沟渠(32),这个沟渠(32)穿过电荷存储层(18)并延伸至掺杂半导体层(14)内。
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