[发明专利]单石化流体喷射装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200410004156.3 | 申请日： | 2004-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN1654212A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | 周忠诚 | 申请（专利权）人： | 明基电通股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/05 | 分类号： | B41J2/05;B41J2/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单石化流体喷射装置，包括：基底；形成于该基底上的结构层；设置于该基底中以供应流体的歧管；设置于基底与结构层之间的多个第一流体腔，以容纳待喷射的流体，且所述第一流体腔与歧管直接连通；设置于基底与结构层之间的至少一个第二流体腔，以容纳待喷射的流体，且该第二流体腔与歧管不直接连通；设置于基底与结构层之间以将流体供至第二流体腔的流道；以及穿过结构层并与所述第一流体腔及第二流体腔连通的多个喷孔，以喷射流体。本发明还公开了制造这种单石化流体喷射装置的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 石化 流体 喷射 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种单石化流体喷射装置，包括：一基底；一形成于所述基底上的结构层；一设置于所述基底中、以供应流体的歧管；多个设置于所述基底与结构层之间的第一流体腔，以容纳待喷射的流体，且所述第一流体腔与所述歧管直接连通；至少一个设置于所述基底与结构层之间的第二流体腔，以容纳待喷射的流体，且该第二流体腔与所述歧管不直接连通；一设置于所述基底与结构层之间的流道，以将流体供至所述第二流体腔；以及多个穿过所述结构层、并与所述第一流本腔及第二流体腔连通以喷射流体的喷孔。
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