[发明专利]辐射刻蚀设备用的吸嘴无效
| 申请号： | 200410001930.5 | 申请日： | 2004-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1642371A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 张毅;叶佩娟;郑同昇;洪政勋 | 申请（专利权）人： | 铼宝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陈肖梅;文琦 |
| 地址： | 台湾省新竹县湖*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辐射刻蚀设备用的吸嘴，其应用于制造有机发光面板的辐射刻蚀设备中，且包括一辐射光束(radiation beam)通道、以及至少一残渣(debris)通道，辐射光束通道贯穿吸嘴，并具有一辐射光束出口，而残渣通道与辐射光束通道独立而设，并具有至少一邻设于辐射光束出口的残渣吸入口。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 刻蚀 备用 | ||
【主权项】：
1、一种辐射刻蚀设备用的吸嘴，其特征在于，包含：一辐射光束通道，其贯穿吸嘴，并具有一辐射光束出口；以及至少一残渣通道，其与辐射光束通道独立而设，并具有至少一邻设于辐射光束出口的残渣吸入口。
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