[发明专利]多孔Si3N4及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200410001478.2 申请日: 2004-01-08
公开(公告)号: CN1522989A 公开(公告)日: 2004-08-25
发明(设计)人: 佐藤武;朴辰珠 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C04B38/00 分类号: C04B38/00;C04B38/06;C04B35/626;C04B35/65;C04B35/584
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元;赵仁临
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种多孔Si3N4制备方法,所述多孔Si3N4具有高气孔率、并且具有纵横比高的Si3N4粒子,该法具有下列工序:混合工序,把Si粉末和作为第一烧结助剂的至少1种稀土类元素化合物粉末加以混合,得到混合粉末,其中,对Si粉末100质量份,稀土类元素化合物换算成氧化物达到7.5~45质量份;添加工序,往该混合粉末中添加粘合剂;成型工序,用该混合粉末和粘合剂的混合物制造成型制品的成型工序;脱粘合剂工序,把该成型制品在氮氛围气中加热到300~500℃,除去粘含剂而形成脱粘合剂体;氮化工序,把该脱粘合剂体在氮氛围气中加热到1350~1500℃,进行氮化而制作氮化体;烧结工序,把该氮化体于1750~1900℃的温度在0.1~1个大气压的氮气中进行烧结。
搜索关键词: 多孔 si sub 及其 制备 方法
【主权项】:
1.多孔Si3N4的制备方法,该方法包括:(a)混合工序,把Si粉末和作为第一烧结助剂的至少1种稀土类元素化合物加以混合得到混合粉末,其中,对Si粉末100质量份,稀土类元素化合物换算成氧化物达到7.5~45质量份;(b)往该混合粉末中添加粘合剂的添加工序;(c)用该混合粉末和粘合剂的混合物制造成型制品的成型工序;(d)脱粘合剂工序,把该成型制品在氮气氛围中加热到300~500℃,除去粘合剂而形成脱粘合剂体;(e)氮化工序,把该脱粘合剂体在氮气氛围中加热到1350~1500℃,进行氮化而制作氮化体;(f)烧结工序,把该氮化体于1750~1900℃在0.1~1个大气压的氮气压中进行烧结。
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